ในงาน Foundry Direct Connect ที่ผ่านมา อินเทลได้เปิดเผยแผนพัฒนาชิปประสิทธิภาพสูงอย่างเป็นทางการ โดยชิปที่เรียกว่า 14A (ขนาด 1.4 นาโนเมตร) จะเข้าสู่สายการผลิตในปี 2026 และจะมีรุ่นปรับปรุงเป็น 14A-E ตามมาในปี 2027 นอกจากนี้ อินเทลยังยืนยันว่าจะเริ่มพัฒนาชิป 10A (เทียบเท่า 1 นาโนเมตร) ในช่วงปลายปี 2027

คีย์หลักสำคัญคือ อินเทลเตรียมใช้เครื่อง EUV (extreme ultraviolet lithography) จาก ASML เพื่อผลิตทรานซิสเตอร์ขนาดเล็ก นี่เป็นส่วนหนึ่งของแผนการเปลี่ยนไปใช้เทคโนโลยี EUV แทนกระบวนการผลิตแบบเดิม

และเนื่องจากความต้องการชิปที่คาดว่าจะเพิ่มขึ้นในอนาคต อินเทลจึงวางแผนขยายกำลังการผลิตและใช้เทคนิคการบรรจุชิปขั้นสูง โดยเฉพาะชิปสำหรับประมวลผลปัญญาประดิษฐ์ (AI) ด้วยเช่นกัน

เล็กแล้วดีขึ้นยังไง ตอบง่าย ๆ ก็ให้เปรียบเทียบกับชิปสมัยก่อนที่มีขนาดใหญ่กว่า เทียบกับชิปสมัยนี้ แน่นอนว่า ประสิทธิภาพมันจะเพิ่มมากขึ้น อัตราการใช้พลังงานน้อยลง และความร้อนก็น้อยลงด้วยเหมือนกันครับ

ปัจจุบัน โรงงานผลิตชิปของอินเทลที่ใช้เทคโนโลยี EUV มีเพียง 3 แห่ง คือ Intel 4, Intel 3 และ Intel 20A คิดเป็นประมาณ 15% ของปริมาณทั้งหมด ในขณะที่ Intel 7 ที่ใช้เทคโนโลยี DUV ยังครองส่วนแบ่งการตลาดส่วนใหญ่ แต่อินเทลคาดว่า โรงงานผลิตที่ใช้เทคโนโลยี EUV จะเพิ่มขึ้นอย่างต่อเนื่องไปจนถึงปี 2025 ครับ

ที่มา
https://www.techspot.com/news/102058-intel-1nm-node-coming-2027-double-digit-improvements.html